Свершилось то, о чем полупроводниковая индустрия говорила последние несколько лет с замиранием сердца. Компания ASML официально подтвердила, что Intel Foundry успешно внедрила установки литографии нового поколения High NA EUV в реальный производственный процесс, начав выпуск процессоров Intel Core Ultra Series 3 на технологическом узле Intel 18A. Это не экспериментальный запуск и не тестовый образец в лаборатории — речь идет о полноценной коммерческой продукции, сходящей с конвейера. Многолетнее партнерство двух гигантов впервые материализовалось в потребительский чип, что переводит технологию из разряда футуристических концепций в суровую реальность массового производства.
Процессоры Intel Core Ultra Series 3, известные под кодовым именем Panther Lake, стали тем самым первопроходцем, который примет на себя весь груз ответственности за демонстрацию возможностей новой литографии. Применение High NA EUV для формирования отдельных критических слоев на кристалле позволило инженерам обеих компаний собрать бесценный массив данных о тонкой настройке оборудования, стабильности работы и времени безотказной эксплуатации в условиях реального производства. Этот практический опыт расчищает взлетную полосу для куда более широкого внедрения технологии в будущем и, по сути, задает вектор развития всей отрасли на годы вперед.
Глава ASML Кристоф Фуке охарактеризовал этот момент как фундаментальный сдвиг в полупроводниковой литографии, подчеркнув, что возросшее разрешение и улучшенный контроль процессов открывают дорогу к созданию транзисторов меньшего размера с более плотной компоновкой, а это именно то, что жизненно необходимо для ускорения прогресса в сфере искусственного интеллекта. Его коллега из Intel, исполнительный вице-президент и глава литейного подразделения Нага Чандрасекаран, акцентировал внимание на том, что квалификация High NA EUV на отдельных слоях продукта Intel 18A — это не просто технический успех, а сигнал рынку. Заказчики Intel Foundry уже сейчас получают увеличенный выход годных изделий с существующего парка оборудования, в то время как компания параллельно оттачивает инструментарий для будущих узлов, стремясь к лидерству по производительности, плотности и, что немаловажно, производственной гибкости.
История этого успеха началась еще в 2024 году, когда Intel и ASML закончили интеграцию первого в мире коммерческого High NA EUV сканера в исследовательском центре Intel в Хиллсборо, штат Орегон. Тогда же Intel стала первой компанией, получившей и прошедшей приемочные испытания системы второго поколения TWINSCAN EXE:5200B. Этот аппарат, выросший из предшественника EXE:5000, отличается повышенной производительностью, улучшенной точностью совмещения слоев и более совершенным источником излучения. Нынешнее заявление окончательно закрепляет за Intel статус не только пионера по установке рекордно дорогих и сложных машин, но и первого в мире производителя, отгружающего массовый логический продукт, изготовленный с применением High NA EUV.
