Корпорация Intel опубликовала отчет о доходах за третий квартал, который не только превзошел ожидания аналитиков, но и ознаменовал собой значительное восстановление операционной прибыли компании. В ходе последующей конференц-связи с инвесторами руководство Intel поделилось весьма позитивными новостями о состоянии своих передовых производственных технологий, подтвердив, что работа идет полным ходом и по графику.
Особое внимание было уделено технологическому процессу Intel 18A. Финансовый директор Дэвид Зинснер (David Zinsner) заверил, что компания добивается «устойчивого прогресса» с предсказуемым уровнем выхода годной продукции. Он подтвердил, что компания находится на пути к выпуску продуктов на этом узле, включая процессоры Panther Lake, уже в этом году. Более того, фабрика Fab 52 в Аризоне, предназначенная для крупносерийного производства по норме 18A, уже полностью введена в эксплуатацию. Intel 18A, по словам Зинснера, станет основой для как минимум следующих трех поколений клиентских и серверных продуктов.
Касательно текущего состояния выхода годной продукции (yields) на 18A, Зинснер отметил, что они находятся «там, где мы и хотели их видеть на данном этапе», и компания уверена в достижении поставленных целей к концу года. При этом, как и с любым новым техпроцессом, для полной окупаемости и оптимизации затрат потребуется время: по оценкам, на то, чтобы довести 18A до идеального состояния с точки зрения себестоимости, уйдет весь следующий год. Тем не менее, текущий уровень дефектов уже достаточно низкий, что позволяет без проблем и значительных финансовых потерь производить даже большие по площади кристаллы. Инвестиции в дальнейшее совершенствование 18A продолжатся, что обеспечит долгосрочное использование этой технологии.
Самым интригующим стал анонс о технологическом процессе Intel 14A. Генеральный директор Лип-Бу Тан (Lip-Bu Tan) подтвердил активное сотрудничество с «множеством клиентов» и видимое улучшение показателей выхода и надежности. Дэвид Зинснер добавил, что старт 14A оказался «даже лучше», чем у 18A на аналогичной стадии зрелости, превосходя его по производительности и выходу годной продукции.
Ключевым фактором этого успеха стало использование оборудования High-NA EUV от ASML. Intel отчиталась, что в течение одного квартала было обработано более 30 000 тестовых пластин по норме 14A с использованием High-NA EUV-литографии. Эта передовая технология позволила значительно упростить производство, сократив необходимое количество шагов для создания определенного слоя с сорока до менее чем десяти, что, в свою очередь, привело к существенному ускорению производственных циклов. Это подтверждает намерения Intel вернуть себе технологическое лидерство в ближайшем будущем.
Об авторе
