Dai Nippon Printing (DNP) объявила о создании нового nanoimprint-литографического (NIL) шаблона с шириной проводников всего 10 нанометров — решения, способного обеспечивать формирование топологий, соответствующих поколению логических полупроводников уровня 1,4 нм. Разработка ориентирована на современные устройства, включая смартфоны, инфраструктуру дата-центров и NAND-память, где требования к плотности и энергоэффективности продолжают стремительно расти.
По мере того как индустрия переходит к всё более миниатюрным и сложным архитектурам, EUV-литография сформировала основу для производства передовых чипов. Однако оборудование для EUV требует колоссальных капиталовложений, высокой энергетической мощности и значительных эксплуатационных затрат, что усиливает запрос рынка на альтернативы, позволяющие снизить стоимость владения производственными линиями и уменьшить экологическое воздействие. NIL-технология, которую DNP развивает с 2003 года, предлагает иной путь — формирование узоров методом прямого прессования шаблона в материал подложки, что позволяет значительно сократить энергопотребление на стадии экспонирования.
Новый шаблон DNP с линией 10 нм стал результатом применения методики Self-Aligned Double Patterning, удваивающей плотность структур за счёт чередования осаждения плёнок и их последующего травления по маске, сформированной электронно-лучевой записью. Компания объединила собственные экспертизы в фотошаблонах и процессах wafer-производства, добившись высокой точности формирования рисунка, сопоставимой с передовыми технологическими нормами. Такое решение открывает доступ к производству топологий уровня 1,4 нм для компаний, которые не располагают EUV-линейками, расширяя спектр инструментов для контрактных производителей и снижая порог входа в сегмент передовых логических полупроводников.
По оценкам DNP, применение NIL-процессов на основе новой разработки позволяет уменьшить энергопотребление на этапе экспонирования приблизительно в десять раз по сравнению с ArF immersion и EUV-экспозициями. Это делает технологию привлекательной не только в контексте удешевления производства, но и для снижения нагрузки на энергосистемы и улучшения экологических показателей фабрик.
Компания уже ведёт технические оценки с производителями полупроводников и планирует запустить массовое производство новых NIL-шаблонов в 2027 году. DNP намерена наращивать мощности и активно инвестировать в развитие технологии, рассчитывая увеличить продажи NIL-решений до 4 млрд иен к 2030 финансовому году. Премьера 10-нанометрового шаблона состоится на SEMICON Japan 2025, где его представят на стенде DNP в East Hall 6.