Samsung Electronics пока не спешит внедрять литографические установки High-NA EUV производства ASML, продолжая развивать передовые техпроцессы с использованием существующего поколения EUV-оборудования. По данным ZDNet Korea, ситуация может измениться при разработке 1-нм техпроцесса Samsung Foundry, запуск которого ожидается примерно в 2030 году.
Таким образом, Samsung может стать одним из последних производителей передовых чипов, перешедших на High-NA EUV. Intel уже постепенно готовит 14A к рискованному производству с использованием High-NA EUV, а TSMC, как ожидается, начнет применять это оборудование примерно в 2029 году. При этом более поздний переход Samsung не означает технологического отставания: компания пока способна получать необходимые результаты с помощью Low-NA EUV.
Основная причина — стоимость оборудования. Современная установка High-NA EUV от ASML оценивается примерно в $400 млн, то есть примерно вдвое дороже системы Low-NA EUV. Для производителей это серьезная капитальная нагрузка, особенно если аналогичного технологического эффекта можно добиться модернизацией производственного процесса без закупки нового поколения литографических машин.
Одним из таких методов является multi-patterning. При его использовании Low-NA EUV выполняет несколько экспонирований одного слоя вместо одного прохода. Два последовательных процесса экспонирования позволяют приблизиться к результатам, которые дает High-NA EUV, хотя при этом увеличиваются сложность производства и количество операций.
У такого подхода есть физические и экономические ограничения. По мере уменьшения размеров элементов преимущества multi-patterning будут сокращаться, а дополнительные операции станут слишком сложными и дорогими. Именно на этом этапе High-NA EUV получит более заметное преимущество, поэтому переход Samsung к этой технологии на уровне 1 нм и ниже выглядит логичным.
Похожей стратегии придерживается и TSMC, которая пока рассчитывает развивать передовые узлы преимущественно на базе Low-NA EUV. Samsung, судя по имеющейся информации, выбирает аналогичный путь, откладывая значительные инвестиции в High-NA до момента, когда преимущества нового оборудования станут экономически оправданными.
