Южнокорейское издание The Bell, традиционно осведомленное о внутренней кухне техногигантов, сообщает о пересмотре дорожной карты Samsung Foundry в части самого передового из заявленных техпроцессов. Массовое производство чипов по нормам 1,4 нм теперь значится в планах компании на 2029 год, что означает перенос с изначально намеченного 2028-го. Причиной корректировки сроков называется не технологическая пробуксовка, а вполне прагматичный производственный фактор: расширение и плановая загрузка линий под техпроцесс SF2 и его производную версию SF2P поглощают ресурсы, которые Samsung пока не готова распылять на параллельный разгон более тонкого узла. Иными словами, зрелый двухнанометровый процесс должен сначала как следует поработать и окупиться, прежде чем ворота откроются для полуторананометрового преемника.
Такой график, что характерно, практически синхронизирует Samsung с остальными участниками большой литографической гонки, и это само по себе интригует. Intel, отчаянно пытающаяся вернуть себе технологическое лидерство, планирует начать рискованное производство — так называемый risk production — на узле 14A в том же 2028 году, а на полномасштабный выпуск выйдет синхронно с корейцами, в 2029-м. TSMC, будучи бессменным калибром точности в этом цеху, сохранит за собой небольшую фору во времени: ее версия ангстремного техпроцесса под маркировкой A14 должна пойти в серию уже в 2028 году, обеспечивая тайваньскому гиганту традиционное право первым снимать сливки с заказов наиболее требовательных клиентов. Таким образом, к концу десятилетия ландшафт контрактного производства кремния обещает стать куда более конкурентным, чем сегодняшняя дуополия TSMC и Samsung, а заказчики получат реальную альтернативу, которой были лишены последние несколько лет.
Наиболее примечательным аспектом грядущего перехода Samsung на 1,4 нм станет дебют литографического оборудования нового поколения — High-NA EUV. Это будет первый в истории компании техпроцесс, который на этапе внедрения сразу откажется от привычных Low-NA EUV-инструментов в пользу сканеров с высокой числовой апертурой, что сулит существенное улучшение разрешающей способности при печати критически малых элементов транзисторов. По имеющимся данным, ASML готовится отгрузить Samsung порядка семи таких установок до конца 2027 года, и эти поставки станут фундаментом будущей производительности узла, поскольку каждый High-NA инструмент способен обрабатывать от 175 до 200 пластин в час, теоретически позволяя поднять месячный объем выпуска до отметок, превышающих сто тысяч кремниевых подложек. В реальности, разумеется, никто не ожидает круглосуточной загрузки без остановок на калибровку и профилактику, но даже с поправкой на земное притяжение запас по мощности выглядит внушительно. Параллельно Samsung активно формирует пул поставщиков сопутствующего оборудования для исследовательского хаба NRD-K, где ведутся переговоры как с локальными корейскими вендорами, так и с тяжеловесами уровня Applied Materials и Lam Research, что указывает на комплексную подготовку инфраструктуры задолго до старта коммерческих отгрузок
Об авторе
